HLSL 如何正确勾勒平面阴影模型

Question

我有一个问题，希望你能帮助我。我一直忙于用 xna 制作游戏，最近开始涉足着色器 (hlsl)。我喜欢、使用并希望改进这个着色器。

着色器通过绘制模型的背面（黑色）并沿其法线平移顶点来创建轮廓。现在，对于平滑阴影模型，这很好。但是，我使用的是平面阴影模型（我是通过手机发布的，但如果有人对这意味着什么感到困惑，我可以稍后上传图片）。这意味着顶点沿其对应面的法线平移，从而导致面之间出现可见间隙。

现在，问题是：有没有办法计算（在着色器或 xna 中），我应该如何翻译每个顶点，或者是唯一可行的选择只是制作 3d 模型的副本，但平滑阴影？

先谢谢了，希望大家多多指教！

编辑：或者，我可以只加载一个平滑着色模型，并尝试在着色器中对其进行平面着色。然而，这意味着我必须能够找到相应面的所有顶点的法线，添加它们的法线，并对结果进行归一化。有没有办法做到这一点？

EDIT2：到目前为止，我发现了一些最终似乎不起作用的选项：现在不推荐在 hlsl 中设置“shademode”。将填充模式设置为“线框”会很整洁（同时剔除正面），只要我能够设置线条粗细。

我正在这里研究一个新想法。我也许可以遍历顶点，找到它们在屏幕上的位置，并使用 RoundLine 库之类的东西在这些点之间绘制二维线。我要试试这个，看看它是否有效。

Answer 1

好的，我已经解决这个问题一段时间了，发现了一些效果很好的东西。

我做了很多复杂的数学运算来在正确的深度绘制二维线，我只是做了以下事情： 设置一个光栅化状态，剔除正面，绘制线框，并具有略微负的深度偏差。 现在用全黑绘制模型（为此我修改了我的着色器） 设置一个光栅化状态，剔除背面，在 fillmode.solid 中绘制并具有 0 深度偏差。 现在正常绘制模型。

由于我们无法更改线框线条的粗细，我们只剩下一个非常纤细的轮廓。就我而言，这实际上并不算太糟糕。

我希望这些信息对以后的人有用。