掩模生产的两个光栅对齐

Question

我有两个分辨率相同（10 m）的栅格，但不同之处在于我从矢量文件创建了第一个栅格（使用rasterize 函数），另一个栅格是我的分类结果。 我想将从矢量获得的光栅蒙版应用于分类结果。但是，当我检查两个栅格的范围时，我发现它们的范围略有不同（大约 3 m），即使它们具有相同的投影（当我检查两个栅格的 crs() 时，它们肯定匹配） .两个网格的行数和列数也相同。 当我创建一个蒙版时，我收到错误消息 在 compareRaster(x, mask) 中出错：不同程度。 您知道如何将两个栅格对齐到同一起点吗？

Answer 1

根据我的经验，这个问题可以通过使用 raster 包的 resample() 函数将掩码重新采样为要掩码的图像的空间属性来解决。

mask_new <- resample(mask, img, method="ngb")

小心使用不会改变掩码文件中信息的插值方法。例如，在大多数情况下，最近邻应该比标准的“双线性”工作得更好。

如果这不能解决问题，您可以另外尝试使用 raster 包的 rasterOptions() 函数使用“tolerance”参数。