【发布时间】：2012-03-22 02:28:10
【问题描述】：
我想自己在 GLSL 着色器中实现纹理过滤（min 和 magfilter）（因为我想使用 image_load_and_store 而不是采样器，而且我想以特殊方式处理未定义的像素），我正在寻找用于讨论过滤过程的文章。
我可以回忆起如何从我曾经写过的光线追踪器中实现纹理过滤 - 我认为你需要考虑每个像素的 UV 梯度，并根据这些梯度的长度以某种方式缩放你的采样光栅......但我在那里使用一个 49 个样本的圆形内核，我认为这太重了。
我认为我可以使用 dFdx() 和 dFdy() 获得 UV 渐变 - 但我想知道 openGL 使用哪种内核进行过滤并以相同的方式在我的 glsl 着色器中实现它。
还有 - 如何区分是否需要应用 minfilter 或 magfilter？过滤过程有什么不同吗？
最后但同样重要的是：如果是缩小过滤，如何根据 UV 梯度选择合适的 mipmap 级别？
【问题讨论】：
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出于好奇，你为什么要这么做？
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通常，纹理过滤和采样是使用硬件执行的。这肯定会很困难，更不用说在着色器中实现性能密集型了。
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这是图形研究，因此我们正在模拟未来可能由硬件支持的功能。我这样做有两个原因：首先，我需要使用 image_load_and_store（我实际上不知道我是否可以使用与我也用作 ImageStore 目标的采样器相同的纹理？）第二个原因是我想用以特殊方式获取值“NaN”（如果其中一个纹素为 NaN，则常规过滤只会使整个像素变为 NaN）